當前位置:國文幫>習題庫>

以高鈦渣(主要成分爲Ti3O5,含少量SiO2、FeO、Fe2O3)爲原料製備白*顏料TiO2的一種工藝流程如...

習題庫 閱讀(1.17W)

問題詳情:

以高鈦渣(主要成分爲Ti3O5,含少量SiO2、FeO、Fe2O3)爲原料製備白*顏料TiO2的一種工藝流程如下:

以高鈦渣(主要成分爲Ti3O5,含少量SiO2、FeO、Fe2O3)爲原料製備白*顏料TiO2的一種工藝流程如...

已知:Na2TiO3難溶於鹼*溶液;H2TiO3中的雜質Fe2+比Fe3+更易水洗除去。

(1)熔鹽:

①爲加快反應速率,在維持反應物顆粒大小、反應溫度一定的條件下,可採取的措施是__________。

②NaOH固體與Ti3O5在空氣中加熱至500~550 ℃時生成Na2TiO3,該反應的化學方程式爲_________。

(2)過濾:

①“濾液”中主要溶質爲NaOH,還含有少量________(填化學式)。

②除雜後的濾液中獲得的NaOH可循環利用,則“水浸”時,用水量不宜過大的主要原因是_________。

(3)水解:“*溶”後獲得的TiOSO4經加熱煮沸,生成難溶於水的H2TiO3,該反應的化學方程式爲______。

(4)脫*:H2TiO3中因存在少量Fe(OH)3而影響TiO2產品的顏*,“脫*”步驟中Ti2(SO4)3的作用是_________。

【回答】

攪拌    12NaOH+2Ti3O5+O2以高鈦渣(主要成分爲Ti3O5,含少量SiO2、FeO、Fe2O3)爲原料製備白*顏料TiO2的一種工藝流程如... 第2張6Na2TiO3+6H2O    Na2SiO3    用水量過大,導致濾液濃度過低,蒸發濃縮時能耗增加(或蒸發濃縮時間過長)    TiOSO4+2H2O以高鈦渣(主要成分爲Ti3O5,含少量SiO2、FeO、Fe2O3)爲原料製備白*顏料TiO2的一種工藝流程如... 第3張H2TiO3↓+H2SO4    將溶液中的Fe3+還原爲Fe2+,以便除去雜質鐵,提高H2TiO3的純度   

【分析】

(1)①攪拌可使反應物混合均勻;

②Ti3O5轉化爲Na2TiO3,鈦元素化合價升高,根據氧化還原反應的規律書寫並配平化學方程式;

(2)①加入*氧化*後,二氧化硅會與*氧化*反應生成水溶*的硅**;

②考慮後續的蒸發結晶耗能問題分析作答;

(3)根據水解原理結合產物書寫化學方程式;

(4)根據提示給定資訊,“H2TiO3中的雜質Fe2+比Fe3+更易水洗除去”來分析作答。

【詳解】

(1)①爲加快反應速率,在維持反應物顆粒大小、反應溫度一定的條件下,可適當攪拌,因爲攪拌可使反應物混合均勻,增加反應物的接觸機會,從而達到加快反應速率的目的,

故*爲攪拌;

②NaOH固體與Ti3O5在空氣中加熱至500~550 ℃時生成Na2TiO3,發生氧化還原反應,其化學方程式爲:12NaOH+2Ti3O5+O2以高鈦渣(主要成分爲Ti3O5,含少量SiO2、FeO、Fe2O3)爲原料製備白*顏料TiO2的一種工藝流程如... 第4張6Na2TiO3+6H2O,

故*爲12NaOH+2Ti3O5+O2以高鈦渣(主要成分爲Ti3O5,含少量SiO2、FeO、Fe2O3)爲原料製備白*顏料TiO2的一種工藝流程如... 第5張6Na2TiO3+6H2O;

(2) ①熔鹽時加入的*氧化*會與少量雜質SiO2反應,其化學方程式爲:2NaOH+SiO2 = Na2SiO3+H2O,生成的硅**易溶於水,則“濾液”中含有少量Na2SiO3,

故*爲Na2SiO3;

②“水浸”時,用水量過大,導致濾液濃度過低,蒸發濃縮時能耗增加(或蒸發濃縮時間過長),

故*爲用水量過大,導致濾液濃度過低,蒸發濃縮時能耗增加(或蒸發濃縮時間過長);

(3)“*溶”後獲得的TiOSO4會發生水解,經加熱煮沸生成難溶於水的H2TiO3,其化學方程式爲:TiOSO4+2H2O以高鈦渣(主要成分爲Ti3O5,含少量SiO2、FeO、Fe2O3)爲原料製備白*顏料TiO2的一種工藝流程如... 第6張H2TiO3↓+H2SO4,

故*爲TiOSO4+2H2O以高鈦渣(主要成分爲Ti3O5,含少量SiO2、FeO、Fe2O3)爲原料製備白*顏料TiO2的一種工藝流程如... 第7張H2TiO3↓+H2SO4;

(4)根據給定資訊易知,“脫*”步驟中加入還原*的Ti2(SO4)3,是爲了將溶液中的Fe3+還原爲Fe2+,以便除去雜質鐵,提高H2TiO3的純度,且不引入新的雜質,

故*爲將溶液中的Fe3+還原爲Fe2+,以便除去雜質鐵,提高H2TiO3的純度。

知識點:氧化還原反應

題型:綜合題

最新推薦
猜你喜歡