一百在拋光工藝中，拋光液的種類、拋光墊的選擇、拋光壓力、溫度、拋光盤轉速、加工時間等諸多條件都是決定拋光質量的重要因素。
本發明涉及一種可導電的拋光墊及其製造方法。
一種化學機械拋光墊，包含由(A)苯乙烯聚合物和(B)二烯聚合物構成的非水溶*基質。
另外，本發明還公開了形成拋光墊的方法以及用拋光墊拋光表面的方法。
選擇最好的拋光墊被使用與您的緩衝區。
本發明提供了一種拋光墊，其可包括多個直徑在大約5-80微米的範圍內的可溶纖維，以及不可溶成分。
本發明涉及一種具有阻絕層的拋光墊和其製造方法，所述拋光墊包括底材、阻絕層和研磨層。
而尖點朝下之鑽石修整後之拋光墊材料的變形模式以切削爲主。
本發明提供一種拋光墊，在拋光墊具有拋光媒質的情況下，用於拋光磁的、光學的和半導體襯底中至少一種。
拋光墊修整是化學機械拋光的重要過程之一。
本發明提供了一種拋光墊，其可包括多個直徑在大約5 - 80微米的範圍內的可溶纖維，以及不可溶成分。
拋光墊表面特*能可大大改變拋光液的流動情況，從而影響化學機械拋光的拋光*能。
而尖點朝下之鑽石修整後之拋光墊材料的變形模式以切削爲主
選擇最好的玻璃或光拋光墊被使用與您的緩衝區。
