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某學生利用以下裝置探究*氣與氨氣之間的反應。其中C爲純淨乾燥的*氣與氨氣反應的裝置。請回答下列問題:(1)裝置...

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問題詳情:

學生利用以下裝置探究*氣與氨氣之間的反應。其中C爲純淨乾燥的*氣與氨氣反應的裝置。請回答下列問題:

某學生利用以下裝置探究*氣與氨氣之間的反應。其中C爲純淨乾燥的*氣與氨氣反應的裝置。請回答下列問題:(1)裝置...

(1)裝置A中的燒瓶內固體不能選用_____________。    

A.生石灰                B.鹼石灰   

C.五氧化二*      D.燒鹼

(2)裝置A中發生反應的化學方程式爲________________________。

(3)B裝置的作用_____________;E裝置的作用_____________。

(4)裝置C內出現濃厚的白煙並在容器內壁凝結,另一生成物是空氣的主要成分之一。寫出反應的化學方程式:___________。

(5)從裝置C的G處逸出的尾氣中可能含有黃綠*的有毒氣體,需要處理,寫出離子方程式________________; 

實驗室製備氨氣,下列方法中適宜選用的是________________________。

①固態*化銨加熱分解     

②濃氨水中加入固體*氧化*

③加熱濃氨水     

④固態*化銨與*氧化鈣混合加熱

【回答】

【*】    (1). C    (2). NH3·H2O 某學生利用以下裝置探究*氣與氨氣之間的反應。其中C爲純淨乾燥的*氣與氨氣反應的裝置。請回答下列問題:(1)裝置... 第2張NH3↑+H2O    (3). 乾燥氣體    (4). 吸收HCl    (5). 8NH3+3Cl2=N2+6 NH4Cl    (6). Cl2+2OH-=Cl-+C1O-+H2O    (7). ②③④

【解析】

【分析】

(1)五氧化二*爲**氧化物與氨氣反應,故不能選用; (2)裝置A中一水合氨分解生成氨氣; (3)鹼石灰可以乾燥氨氣,飽和食鹽水可以除去*氣中某學生利用以下裝置探究*氣與氨氣之間的反應。其中C爲純淨乾燥的*氣與氨氣反應的裝置。請回答下列問題:(1)裝置... 第3張*化*雜質; (4)氨氣和*氣反應生成*化銨和氮氣; (5)*氣與*氧化*溶液反應生成*化*、次***和水;

①加熱*化銨生成氨氣和*化*,氨氣和*化*遇冷又生成*化銨; ②固體*氧化*溶於水放熱,電離產生*氧根離子,結合一水合氨電離平衡移動影響因素; ③一水合氨受熱分解生成氨氣; ④固態*化銨與*氧化鈣混合加熱生成氨氣。

【詳解】(1)生石灰與水反應生成*氧化鈣,放出大量的熱,有利於氨氣的逸出;*氧化*溶於水放熱,促使氨水分解,且OH-的濃度增大有利於NH3的生成,所以可以用將濃氨水逐滴滴加到生石灰、鹼石灰或燒鹼上製取氨氣,五氧化二*爲**氧化物與氨氣反應,故不能選用,

故*選C;

(2)裝置A中一水合氨分解生成氨氣,化學方程式爲NH3·H2O 某學生利用以下裝置探究*氣與氨氣之間的反應。其中C爲純淨乾燥的*氣與氨氣反應的裝置。請回答下列問題:(1)裝置... 第4張NH3↑+H2O,

故*爲:NH3·H2O 某學生利用以下裝置探究*氣與氨氣之間的反應。其中C爲純淨乾燥的*氣與氨氣反應的裝置。請回答下列問題:(1)裝置... 第5張NH3↑+H2O;

(3)B裝置中,可以用鹼石灰乾燥氨氣,E裝置中,可以用飽和食鹽水除去*氣中的*化*雜質; 故*爲:乾燥氣體;除去*氣中的*化*; (4)氨氣和*氣反應生成白煙*化銨和空氣的主要成分之一氮氣,即反應的化學方程式爲8NH3+3Cl2═6NH4Cl+N2; 故*爲:8NH3+3Cl2═6NH4Cl+N2;

(5)*氣是**氣體,可以用*氧化*來進行尾氣處理,反應的離子方程式爲Cl2+2OH-=Cl-+C1O-+H2O, 故*爲:Cl2+2OH-=Cl-+C1O-+H2O; 

①加熱*化銨生成氨氣和*化*,氨氣和*化*遇冷又生成*化銨,不能製得氨氣,故①錯誤; ②固體*氧化*溶於水放熱,電離產生*氧根離子,*氧根離子濃度增大,抑制了NH3·H2O的電離,有利於氨氣的逸出,故②正確; ③一水合氨受熱分解生成氨氣,故③正確; ④固態*化銨與*氧化鈣混合加熱生成氨氣,能夠製得氨氣,故④正確; 故選:②③④。

知識點:氣體的製備及實驗方案設計

題型:實驗,探究題

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