本實用新型是一種柱狀靶等離子鍍膜機。
本文介紹了新型硬質塗層和硬質塗層沉積技術中電弧離子鍍和磁控濺*鍍技術的新進展。
本文主要論述基板員偏壓與銅基體磁控濺*離子鍍鋁膜的關係。
透過對靶座結構的改變，使得靶面不再存在其他材質，由此提高了電弧離子鍍膜膜層的純度。
本發明是一種應用於多弧離子鍍、滲設備中的柱狀*極電弧源。包括管狀*極靶材、管內安裝的平行於軸線的數根條形磁鋼、磁鋼整體做旋轉運動。
採用多弧離子鍍技術沉積氮化鈦鋁超硬反應膜。
也可以單獨作爲磁控濺*或多弧離子鍍膜機使用。
採用電弧離子鍍膜方法，以高純石墨爲碳離子源在PM MA樹脂義齒表面沉積類金剛石膜。
摘要採用溼法鍍（化學鍍、電鍍）或真空鍍（蒸發鍍、濺*鍍、離子鍍）方法，在金剛石表面鍍覆一層銅、鎳、鈦、鉬、鎢等金屬，或者它們的複合鍍層。
提出了一種關於多弧離子鍍合金塗層成分離析效應的物理模型。
本文將主要敘述等離子濺*鍍膜的原理與方法，並且簡單介紹磁控管濺*儀和鋨等離子鍍膜儀等。
一種新的鍍膜技術——電弧放電離子鍍研製成功。
離子鍍不鏽鋼錶殼與表圈比賽的樂隊給它一個時髦的外觀。
本論文采用電弧離子鍍技術，純氬氣氣氛下，在AZ合金上製備了類金剛石薄膜及鈦摻雜類金剛石薄膜。
利用脈衝多弧離子鍍技術在硅基底上沉積類金剛石薄膜.
本文利用朗繆爾雙探針對電弧離子鍍等離子體進行了診斷。
其次是黑*鍍層，探討了目前較受歡迎的電鍍黑*錫鎳合金及離子鍍碳化鈦。
中文關鍵詞:氣離濺*、離子源、陽極層流、濺*、氮化鈦、離子鍍膜、中頻、脈衝直流。
重點分析了系統效率，等離子體傳輸影響因素和真空*極電弧離子鍍技術在薄膜研究和製造中的應用。
用*頻、直流磁控濺*和多弧離子鍍製備一系列類金剛石薄膜樣品，並測量了樣品的拉曼光譜。
