“薄膜沉積”寫句子，用薄膜沉積造句

衍*光學元件的製作技術主要包括激光或電子束直寫、反應離子刻蝕、離子束銑及薄膜沉積。

利用納米硬度計研究了薄膜沉積過程中基體負偏壓對薄膜硬度和**的影響。

報告提供了2006年薄膜沉積市場預測資訊.

用於金剛石薄膜氣相化學沉積，作爲籽晶，可使薄膜沉積的速度加快，結晶的定向*強，生長的溫度低等優點。

利用熱脈衝技術研究了不同溼度下電暈充電的聚酰亞*薄膜沉積電荷平均深度向背電極的遷移規律。

綜述了二元光學元件的常用製作工藝技術，包括臺階刻蝕法、薄膜沉積法、直接寫入法、準分子激光加工法和灰階掩模法。