本文討論了通常RF-SQUID諧振電路伏安曲線上電壓平臺寬度計算中的問題，並提出了一種比較合理的計算方法。
循環伏安曲線出現明顯的氧化還原峯，並分別與充、放電電位平臺相對應。
採用1286電化學接口及旋轉圓盤電極測定了硫*銅鍍液*極極化曲線和循環伏安曲線。
進行了恆電流電位-時間曲線和循環伏安曲線的測定，顯示了鐵電極進行*化物鍍銅時，鍍層沉積前鐵表面的電位活化過程。
結合循環伏安曲線圖及五*川菁的光吸收閾值，初步確定五*川菁染料電子基態和激發態能級位置。
伏安曲線和量子化學計算分別用來研究方鉛礦表面的陽極氧化和氧化過程中電子轉移的微觀機制。
