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短週期主族元素M、N、X、W在元素週期表中的相對位置如圖所示,N元素的單質常用作半導體材料.下列判斷正確的是(...

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問題詳情:

短週期主族元素M、N、X、W在元素週期表中的相對位置如圖所示,N元素的單質常用作半導體材料.下列判斷正確的是(...

短週期主族元素M、N、X、W在元素週期表中的相對位置如圖所示,N元素的單質常用作半導體材料.下列判斷正確的是(  )

A.原子半徑的大小:W>X>M

B.氣態*化物的穩定*:N>X>M

C.對應的含氧*的**強弱:W>X>N

D.W分別與N、X形成的化合物中的化學鍵均爲極*鍵

【回答】

【考點】位置結構*質的相互關係應用;元素週期律和元素週期表的綜合應用.

【專題】元素週期律與元素週期表專題.

【分析】N元素的單質常用作半導體材料,則N爲Si,結合短週期主族元素M、N、X、W在元素週期表中的相對位置可知,X爲P,M爲O,W爲Cl.

A.電子層越多,原子半徑越大;同週期從左向右原子半徑減小;

B.非金屬*越強,*化物越穩定;

C.非金屬*越強,最高價含氧*的**越強;

D.W分別與N、X形成的化合物中的化學鍵分別爲爲Si﹣Cl、Cl﹣P鍵.

【解答】解:N元素的單質常用作半導體材料,則N爲Si,結合短週期主族元素M、N、X、W在元素週期表中的相對位置可知,X爲P,M爲O,W爲Cl.

A.電子層越多,原子半徑越大;同週期從左向右原子半徑減小,則原子半徑爲X>W>M,故A錯誤;

B.非金屬*越強,*化物越穩定,則氣態*化物的穩定*:N<X<M,故B錯誤;

C.非金屬*越強,最高價含氧*的**越強,則最高價含氧*的**符合,故C錯誤;

D.W分別與N、X形成的化合物中的化學鍵分別爲爲Si﹣Cl、Cl﹣P鍵,均爲極*鍵,故D正確;

故選D.

【點評】本題考查位置、結構與*質,爲高頻考點,把握元素的位置、*質、元素週期律爲解答的關鍵,側重分析與應用能力的考查,題目難度不大.

知識點:物質結構 元素週期律單元測試

題型:選擇題

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