問題詳情：
實驗室用H2還原SiHCl3(沸點：31.85 ℃)製備純硅的裝置如圖所示(夾持裝置和尾氣處理裝置略去)，下列說法正確的是( )
A. 裝置Ⅱ、Ⅲ中依次盛裝的是濃H2SO4、*水
B. 實驗時，應先加熱管式爐，再開啟盛裝稀硫*的分液漏斗
C. 爲鑑定製得的硅中是否含微量鐵單質，用到的試劑可以爲：鹽*、雙氧水、硫*化鉀溶液
D. 該實驗中製備*氣的裝置也可用於*氧化*稀溶液與*化銨固體反應制備氨氣
【回答】
【*】C
【解析】
本題製備晶體硅，H2＋SiHCl3
Si＋3HCl，此反應應在IV裝置中進行，A、裝置I的目的是製備*氣，*氣中含有水蒸氣，對後續實驗產生干擾，必須除去，因此裝置II的目的是除去*氣中的水蒸氣，即II中盛放濃硫*，III的提供SiHCl3氣體，因此在水浴中加熱，故A錯誤；B、應先通入*氣，目的是排除裝置中的空氣，防止發生危險，故B錯誤；C、硅不與鹽*反應，鐵與鹽*反應生成Fe2＋，Fe2＋被H2O2氧化成Fe3＋，與KSCN溶液變紅，可以鑑定是否含有鐵單質，故C正確；D、用NaOH溶液製備氨氣，需要加熱或NaOH溶液爲濃溶液，I裝置中沒有加熱裝置，且NaOH溶液爲稀溶液，因此此裝置不能製備氨氣，故D錯誤。
知識點：物質的分離 提純和檢驗
題型：選擇題
